Trong các thành phần điện tử, 'epitical' là một thuật ngữ được sử dụng trong công nghệ sản xuất chất bán dẫn và đề cập đến một công nghệ tạo thành một lớp bán dẫn với quá trình tăng trưởng quan trọng. Công nghệ này được sử dụng để cải thiện hiệu suất của các thiết bị bán dẫn, đặc biệt là trong sản xuất chất bán dẫn dựa trên silicon.
Sự lắng đọng epiticular là quá trình lắng đọng một hoặc nhiều lớp bổ sung trên đầu một nguyên mẫu bán dẫn hiện có. Quá trình này còn được gọi là epitaxy và thường được thực hiện bằng các phương pháp như lắng đọng hơi hóa học (CVD) hoặc lắng đọng hơi vật lý (PVD).
Lắng đọng epiticular được sử dụng cho nhiều mục đích khác nhau:
Hiệu suất được cải thiện: Cải thiện tính di động và tốc độ điện tử bằng cách hình thành cấu trúc tinh thể chất lượng cao hơn vật liệu cơ bản của các thiết bị bán dẫn.
Doping: Trong quá trình epiticular, các nguyên tử hoặc ion cụ thể có thể được pha tạp để cung cấp các tính chất điện mong muốn.
Tính ổn định được cải thiện: Lớp epiticular có cấu trúc mạng giống như nguyên mẫu bên dưới, làm cho nó ổn định hơn các lớp được hình thành bởi các kỹ thuật khác.
Tích hợp thiết bị: Các quy trình epiticular được sử dụng để tích hợp nhiều thiết bị vào một chip bán dẫn duy nhất bằng cách gửi nhiều lớp.
Sự lắng đọng epiticular được coi là một công nghệ chính trong sản xuất chất bán dẫn và đóng vai trò chính trong việc cải thiện hiệu suất và hiệu quả của các thiết bị bán dẫn. Công nghệ này là cơ sở cho sự phát triển của một loạt các sản phẩm trong ngành công nghiệp bán dẫn, bao gồm các bộ vi xử lý hiệu suất cao, chip bộ nhớ và đèn LED.
*Thông tin này chỉ dành cho mục đích thông tin chung, chúng tôi sẽ không chịu trách nhiệm cho bất kỳ tổn thất hoặc thiệt hại nào do thông tin trên gây ra.
|